開啟式雙溫區(qū)管式爐 采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。

LFT系列三溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐 該設(shè)備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)（含預(yù)熱器）供應(yīng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設(shè)備

CVD1200C小型滑軌爐（含預(yù)熱裝置） 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護(hù)。其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結(jié)狀態(tài)。

CVD1200C-II-SL雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設(shè)備

雙溫區(qū)滑軌爐（含預(yù)熱器） 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設(shè)備

小型滑軌式管式爐CVD系統(tǒng) 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護(hù)。其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結(jié)狀態(tài)。

單工位低真空石英管封管系統(tǒng) 主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機(jī)、氫氧焰機(jī)、真空系統(tǒng)、石英管機(jī)管接頭組成，標(biāo)準(zhǔn)化定制石英管和石英柱保證其余特殊設(shè)計的管接頭配合，提升石英管封裝的密封性，實現(xiàn)更高標(biāo)準(zhǔn)的真空封管。